产生晶须的原因与试验,观察评估的难题解决
![产生晶须的原因与试验,观察评估的课题解决](/Images/ss_vhx-casestudy_e_whisker_001_1859387.jpg)
晶须问题与产生原因
“晶须(whisker)”不是种金屬外外观天然滋生出金屬多晶硅体的现状,在锡(Sn)电镀件、锌(Zn)电镀件等外外观十分普遍。照句晶须中的须字之意,这样金屬析出好象猫和猴子的长胡子都一样,呈针状或瘤状滋生。晶须问题与历程
如果电子电路或连接部长出了晶须,可能会导致短路,引发电机产品、电子电路、电子元件等的故障。
1946年,收音机可变电容器开始采用镉电镀后,进入市场的产品接连发生短路故障,镉晶须自此便开始受到关注。
1950年代,微量铅合金技术作为一种抑制晶须的措施,逐渐开始推广普及。但是进入2000年代后,无铅化焊接的浪潮席卷全球,让锡电镀成为了时代的新宠。随后,小到手表,大到核反应堆,甚至连NASA人工卫星、航天飞机等航空航天领域,都开始接二连三地出现晶须引起的故障,这项问题再次♋成为了全球关注的焦点,重要ꦿ性激增。
晶须的产生原因
之以至于会出现晶须,其主要是面临了中所的因素的干扰。- 金属间化合物扩散的影响
- 电偶腐蚀*的影响
- 外部应力的影响
- 热膨胀系数差造成的应力的影响
晶须产生的环境
锡、锌因素的晶须在比较接近于于室内温度的状况下也会生产便捷蔓延的情势,但在多少种区域状况的后果下,重元素蔓延会取到促使。生产晶须的意味性区域状况如下如图如图。- 室温下产生
- 温度循环中产生
- 氧化、腐蚀性产生
- 外压下产生
- 电迁移现象*中产生
晶须试验及观察、评估
晶须的会产生及植物生长会导至电动机及电商物料的电脑故障,基本上会制定一个多种冲击检验及通过关察考核,是为了选用防冶方案。现在将以晶须考核冲击检验的不一样及工作环境特征分析,对涉及到通过关察考核的现状及与趋向使用代表。晶须评估试验示例
现行标准晶须测试实验设计的品类与大环境下述随时。- 室温静置试验
- 对金属间化合物/扩散影响导致的晶须生长进行观察
环境:30±2°C/60±3%RH、时间:4000 Hr
- 恒温恒湿试验
- 对电偶腐蚀导致的晶须生长进行观察
环境:55±3°C/85±3%RH、时间:2000 Hr
- 温度循环试验
- 对热膨胀系数差导致的晶须生长进行观察
环境:低温 -55±5°C或-40±5°C/高温 85±2°C或125±2°C、循环:2000个循环
- 外部应力试验
- 对外部应力影响导致的晶须生长进行观察
种类:连接器嵌合试验(使用实际产品)、荷重试验(荷重300 gf的0.1Φ氧化锆球,维持500 h)
预防晶须的关键,放大观察及评估
通过各类试验对产生、生长的晶须实施放大观察,并据此开展状态分析与评估,能够帮助我们提前掌握产品的故障风险,及时采取对策。放大观察及评估能够在电机产品、电子元件等产品正式上市前,提供研究开发、电路设计、材料选用、生产制造等方面的重要信息。
晶须的放大观察,会使用光学显微镜或扫描电子显微镜(SEM),其中,扫描电子显微镜能ꦰ够用短波长电子束替代光线,进行纳米级的观察。但是近年来,随着光学系统与图像处理技术的飞速发展,能够以简单操作观察清晰图像的数码显微系统相继登场,使得用清晰图像高效观察评估晶须成为了可能。
晶须观察评估难题的解决案例
在过去,晶须考察中会用的扫描软件电子为了满足电子时代发展的需求,高倍显微镜观察(SEM)及高倍显微镜观察要面对着各式各样的各样的瓶颈问题。 基恩士的超标多角度电子数码显微软件“VHX型号”装备了以较为先进技艺为推冲力的蒙题辨率HR定焦镜头、4K CMOS、成像软件、照明设计等功用,可凭借简单易行运行,迅速的推动根据清淅4K图相的放缩观测。那么说明避免晶须观测监测中分类问题的应用 装修案例。![用4K数码显微系统“VHX系列”观察连接器的晶须](/Images/ss_vhx-casestudy_e_whisker_002_1859473.jpg)
解决用扫描电子显微镜(SEM)观察晶须是面临的难题
难题:使用扫描电子显微镜(SEM)时
观察晶须时,要花费许多时间和精力进行观察前的准备工作,例如在样本室内调节样本的位置,通过“抽真空”使样本室处于真空或低真空状态等等。
此外,𒁏由于只能从样本的正上方进行观察,如需观察具有立体结构的晶须,每换一次💛角度就要重新进行一轮准备工作。
引进4K数码显微系统“VHX系列”后
巧用新开通发的光学反应操作系统与4K CMOS,不用再再依托于重力作用室,不错直接性在豪迈自然环境下实现了内容涵盖全视眼、最大6000倍的变成探究。不单单能积极主动改善打算工时这样SEM面临着的间题,还能带明白的4K夺鉴别率画像采取探究。![可实现倾斜观察的“全方位观测系统”](/Images/ss_vhx-casestudy_e_whisker_003_1859474.jpg)
解决用显微镜观察晶须是面临的难题
难题:使用部分光学显微镜时
在观察具有立体结构的晶须,抑或是产生晶须的样本为立体物时,显微镜只能进行局部对焦。
由于无法进行倾斜观察,必须花费大量时间去调节观察位置,观察难度很高,要求操作者具备一定的熟练度。
引进4K数码显微系统“VHX系列”后
充分运用用低辨别好坏率HR境头和電動境头转移器共同的做好的“无缝拼接变小”,不须更換境头,就能以20至6000倍的倍数视频拍摄明白的4K图像文件,做好变小考察。![A. 高分辨率HR镜头 B. 电动镜头转换器](/Images/ss_vhx-casestudy_e_whisker_004_1859475.jpg)
- A. 高分辨率HR镜头
- B. 电动镜头转换器
观察立体生长晶须的新基准
高精细4K数码显微系统“VHX系列”还配备了可进行晶须3D形状测量及轮廓测量的“三维尺寸测量”功能、过往拍摄条件自动再现功能、报告创建功能等众多功能。
作෴为一款能够对立体生🌺长晶须进行定量化、高效化观察、分析及测量的产品,“VHX系列”将成为替代部分显微镜和SEM的新工具,在电机产品、电子元件及各类相关领域的生产现场发挥重要的作用。